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半導(dǎo)體廢水處理方法（半導(dǎo)體污水處理流程）
標(biāo)簽：     添加時(shí)間：2022-10-15 瀏覽次數(shù):2814

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半導(dǎo)體廢水處理方法（半導(dǎo)體污水處理流程）


　　半導(dǎo)體行業(yè)的迅速發(fā)展，有利有弊，為什么這么說呢?電子市場(chǎng)的擴(kuò)容對(duì)于工業(yè)、企業(yè)發(fā)展是一種驅(qū)動(dòng)力，推動(dòng)了經(jīng)濟(jì)社會(huì)的發(fā)展，但制造行業(yè)擴(kuò)大，加工廠增加，電子半導(dǎo)體廢水排量增加，半導(dǎo)體廢水并不是隨意可以排放的，那么半導(dǎo)體廢水處理方法有哪些，半導(dǎo)體污水處理流程是怎樣的呢，我們一起來看一下。

　　針對(duì)電子半導(dǎo)體污水處理方法有很多，生化法、物理法、物化法、化學(xué)法等等，都可以根據(jù)半導(dǎo)體廢水水質(zhì)情況進(jìn)行處理，但吸附法、冷凍法、離子交換樹脂法、超濾法、電滲析法，在進(jìn)行廢水處理時(shí)，相對(duì)成本較高，廢水去除達(dá)標(biāo)排放率相對(duì)比較低。

　　電子半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝復(fù)雜，工藝步驟高達(dá)300余步，同時(shí)會(huì)使用多種化學(xué)試劑以及特殊氣體，主要生產(chǎn)工序包括：硅片清洗、氧化、擴(kuò)散、化學(xué)氣相沉積、光刻、去膠、干法刻蝕、濕法刻蝕、離子注入、金屬化鍍膜、化學(xué)機(jī)械拋光等等。

　　生產(chǎn)工序不同，所產(chǎn)生的電子半導(dǎo)體生產(chǎn)廢水也略有差異，對(duì)于產(chǎn)生的電鍍廢水、含氟廢水、重金屬廢水等，康景輝針對(duì)電子半導(dǎo)體廢水產(chǎn)生途徑以及根據(jù)半導(dǎo)體廢水的回收利用，選擇采用膜回收+蒸發(fā)結(jié)晶工藝。

　　對(duì)于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，其他工序中產(chǎn)生的一些有機(jī)廢水、沖洗廢水，其含鹽量或者含重金屬物質(zhì)偏低時(shí)，可以考慮采用化學(xué)藥劑、生化法或者沉淀法等一些簡(jiǎn)單的處理方式。

　　實(shí)際上每一種半導(dǎo)體廢水處理方法，都有其與眾不同的優(yōu)點(diǎn)，大伙兒需要依據(jù)自身的水質(zhì)情況，挑選更為合適自身的解決辦法。



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